第206章 时间，已所剩无几（1/2）

秦昊阳指向前方一台设备，“你看，这里的对准误差控制已经压到工艺极限，稍微偏个0.02微米，良率就跳水。每天设备维护和重复校准几乎占了工程师一半精力。”

良率是芯片制造中的一个关键指标，指的是生产过程中产出的“合格产品”占总产品数量的比例。良率越高，说明制造工艺越稳定，单颗芯片成本越低。

核心设备精度不稳，工程师被迫将大量时间耗在维护和重复校准上，原本应投入工艺改进的空间被严重压缩。而工艺迟滞又加剧了设备老化，使整个系统陷入恶性循环。

姜蕴宁俯身看了看控制面板，目光落在关键参数上，随口问：“你们用的是193nm的浸没式arf光刻机吧？”

秦昊阳点头道：“是的，193nm浸没式arf光刻机理论上支持14纳米及以上工艺，我们利用多重曝光技术，勉强实现了技术日志，一页页调阅良率波动曲线与关键设备误差记录。数据清晰得近乎残酷：光刻系统的极限，早已不是某个参数的问题，而是整套系统架构落后、性能瓶颈日益加重的系统性崩溃。

她在笔记本上写下几个关键词：“euv光源”、“多重对准系统”、“热场控制”、“平台稳定性”。

那一刻，她心中已有明确方向。

光刻机，必须有人来攻克。

如果没有，那她来。

姜蕴宁离开芯片制造车间后，直奔上级主管部门的办公室。

一个星期后，姜蕴宁现身于华国光电设备研究所。

这所研究所，是国内最早涉足光刻设备研发的单位之一，长期扎根于193nm arf系统，积累了深厚的技术经验，在机械控制、光学调校等关键环节具备坚实基础。然而在更高阶的euv领域，却始终难以迈出关键一步。

她随行简约，仅携带一台笔记本电脑，里面载有“苍穹x2”后期架构模拟器、压缩算法模型及若干关键工艺分析图表，以及一本亲手撰写的技术笔记。两名安保人员默默陪同，这场闭门对接没有对外披露。

她来此，并非寻求配合，而是带着方案而来。