第349章 张江的不眠夜（2/2）

针对22nm制程必须面对的“双重曝光”（double patterning）技术，星火eda祭出了经过现场优化的“动态色彩平衡”算法。它能自动将一层复杂的电路图拆分成两张掩膜版，并实时计算两张掩膜版之间的套刻误差（ovey）对电路性能的影响。

张江的夜，灯火通明。

在这股近乎疯狂的推力下，中芯国际的工艺研发进度条仿佛被按下了快进键。

然而，半导体工艺的皇冠，并不是那么容易摘取的。

11月中旬，就在所有人都以为胜利在望的时候，一个巨大的打击降临了。

第一批全流程跑通的22nm验证片出炉。

测试机台前，邱国华看着屏幕上的一片飘红，脸色惨白。

“漏电流超标50倍……”他喃喃自语，声音里充满了绝望，“芯片静态功耗太高了，刚通电就发烫，根本没法用。”

整个实验室陷入了死一般的沉寂。漏电流，这是随着制程微缩，量子隧穿效应增强后最大的噩梦。如果解决不了这个问题，22nm就是一堆废硅。

“是不是掺杂浓度太高了？”

“也许是栅氧层太薄击穿了？”

“要不重新调整source\/drain的注入能量？”

工程师们乱成一锅粥，各种盲目的猜测满天飞。有人甚至提议推翻现在的配方，从头再来。

“都闭嘴。”

一个冷静得有些冰冷的声音响起。

林星石从人群后方走出来，他的脸色有些苍白。

那是连日不断超频的痕迹，但他的眼睛却亮得吓人，只要他还能撑住，他就能一直开着超频效果前进。

“谁都不许动设备。现在的配方在大方向上没有问题。”林星石走到控制台前，调出了eda的仿真界面，“给我48小时。”

说完，他将自己关进了旁边的一间独立工作站，并挂上了“请勿打扰”的牌子。

这48小时，成为了中芯国际历史上最漫长的48小时。

工作站内，林星石并没有像别人想象的那样疯狂敲代码。他只是静静地坐在屏幕前，盯着那张放大了数亿倍的3d晶体管结构图。

在他的脑海中，系统的算力全开。

他仿佛缩小成了一个电子，在那迷宫般的晶体管沟道中穿行。他看到了源极，看到了漏极，看到了上方那道控制生死的“闸门”——栅极。

“漏电流……漏电流……”

林星石的思维触角延伸到每一个角落。他在模拟电流的流动，不是靠公式，而是靠直觉，一种建立在海量数据和绝对理性之上的直觉。

时间一分一秒过去。林星石的眼睛布满了血丝，但他依然在思考。

终于，在第46个小时，他的目光锁定在了晶体管边缘的一个不起眼的角落——浅沟槽隔离（sti）与有源区的交界处。

在微观视角下，由于应力效应，这里的晶格发生了极其微小的扭曲。

这种扭曲在28nm时还可以忽略不计，但在22nm的尺度下，它变成了一条肉眼不可见的高速公路，让电子得以绕过栅极的控制，偷偷溜走。

“找到了。”林星石嘶哑着嗓子，嘴角勾起一抹疲惫的笑容。

他迅速在键盘上敲击，修改了opc（光学邻近效应修正）的规则文件。他没有改变工艺配方，只是在掩膜版的图形上，在这个特定的角落，增加了一个微小的“耳朵”形状的补偿图形，用来抵消应力带来的晶格扭曲。

门打开了。

门外，张汝京、邱国华、周振，还有几十双眼睛齐刷刷地看过来。

“改掩膜版。”林星石递出一个u盘，声音虽然虚弱，却带着不容置疑的力量，yer 34，坐标(x230, y450)处增加应力补偿图形。立刻去光刻机上做在线修正或者快速制版。”

邱国华接过u盘，手有些颤抖。他看着林星石那张年轻却透着威严的脸，这一刻，他心中的所有怀疑都烟消云散，只剩下了盲目的信任。

“快！按林院士说的做！”

新的验证片在焦急的等待中流出。

这一次，当测试探针扎在晶圆上的那一刻，所有人的呼吸都停止了。

屏幕上的数据开始跳动。

漏电流：0.5na\/μm。

标准值：1na\/μm。

完美达标！不仅达标，甚至比国际巨头的同类指标还要优秀！

“成了！我们成了！”

一声撕心裂肺的欢呼声打破了实验室的寂静。平日里严肃刻板的老工程师们，此刻像孩子一样跳了起来，互相拥抱，有人甚至摘下眼镜偷偷抹眼泪。

邱国华看着屏幕上那条完美的iv曲线，久久不能言语。他转过身，看着坐在角落里闭目养神的林星石，深深地鞠了一躬。

“林院士。”邱国华的声音哽咽，“我服了。彻底服了。”

张汝京走过来，轻轻拍了拍林星石的肩膀，眼中满是激赏与感慨：“星石，你不仅救了这个项目，你给华夏半导体指了一条新路啊。”

林星石睁开眼，看着周围欢腾的人群，露出了一个淡淡的微笑。

窗外，东方的天际泛起了鱼肚白。