第353章 林星石的思路（1/2）

“不照抄asml？”

张副部长眉头微微一皱，身体前倾，“林院士，这话怎么讲？asml现在是绝对的霸主，他们的路线已经被证明是成功的。我们如果不走他们的路，难道要另起炉灶搞euv（极紫外）？那个难度更大吧？”

“不，不是搞euv，依然是duv（深紫外），但我们要换一种思路。”

林星石转过身，手中的白板笔在刚才那个圆圈旁边，画了一个巨大的方框。

他的脑海中，此刻正疯狂运转。那些曾经通过黑客手段从asml服务器深处挖掘出来的核心设计图纸，以及前世记忆中关于国产光刻机突围的种种细节，正在系统效果的辅助下，迅速整合、重组。

只有他自己知道，如果没有脑海中那个神秘系统的算力加持，光凭那些零散的数据，根本无法拼凑出一套完整的工程方案。但现在，一张清晰的蓝图已经在他脑中成型。

“各位前辈，asml的光刻机为什么难造？”林星石自问自答，“因为它要求在一个有限的体积内，塞进几万个精密零件，还要保证它们在高速运动下互不干扰。这是一种极致的商业化设计，为了方便运输、方便在晶圆厂里安装。”

“但是，我们现在是在搞攻关，是在解决‘有无’的问题，而不是考虑‘好不好卖’的问题。”

林星石在那个方框里写下了几个大字：工厂即机器。

“如果我们将光刻机的体积限制放开呢？”

林星石的声音提高了几分，“如果我们不追求把它塞进一个集装箱，而是把整座厂房都当成一台光刻机呢？我们可以把光源系统放在一楼，把光路传输系统拉长到几十米，用空间换取稳定性和散热效率。我们可以把双工件台的控制柜做得像一面墙那么大，用冗余的算力和电力来弥补控制精度的不足。”

现场的专家们愣住了。

这种“傻大黑粗”的思路，完全违背了精密仪器“小型化、集成化”的常识。但仔细一想，在座的都是顶级专家，瞬间就意识到了其中的可行性。

“以空间换精度……”那位喜都光机所的院士喃喃自语，眼中闪过一丝精光，“如果光路拉长，透镜组的散热压力确实会减小，热变形好控制了……”

“不仅如此。”

林星石趁热打铁，开始抛出真正的干货。他知道，光靠“大”是忽悠不住这些专家的，必须要有核心技术的突破方案。

“关于浸没式光刻系统，也就是大家最头疼的液体介质问题。”

他在白板上画了一个复杂的流体模型。这是asml最核心的机密之一，也是前世国产光刻机卡了很久的难点。

“我们都知道，193nm的紫外光在水中的折射率是1.44，等效波长可以缩短到134nm，从而大幅提升分辨率。但难点在于，工件台在高速移动时，水流会产生气泡，而且曝光后会有液体残留，这会导致严重的缺陷。”

“我的方案是，采用一种‘动态液膜限制’技术。”

林星石手中的笔飞快地舞动，画出了一组精妙的喷嘴结构，“我们在透镜和晶圆之间，构建一个微米级的液体‘微环境’。利用同轴喷嘴设计，内层喷水，外层回收，通过精确控制流速和压力差，形成一道稳定的‘水墙’。同时，在回收端引入超疏水涂层和负压吸附……”

随着他的讲解，一个个复杂的流体力学公式被写在白板上。

这些公式，是asml当年花了几亿美金、挖了无数流体力学专家才摸索出来的真理。

在座的专家们越听越心惊。

他们原本以为林星石只是个懂工艺的企业家，没想到他对流体力学的理解竟然深到了这种程度。那个“动态液膜限制”模型，逻辑严密，数据详实，仿佛已经经过了成千上万次的仿真验证。