第121章 标准之争，无声处听惊雷（1/2）

北京，西郊宾馆。

会议室里弥漫着旧式地毯特有的气味，混合着浓茶与打印文件的油墨味。长条桌两侧泾渭分明：一边是燧人科技、西南应用物理研究所、以及几家国内半导体设备厂商的代表；另一边，则是昭栄中国、以及两家与其有深度技术合作的欧洲企业代表。

墙上的电子钟显示：上午九点十七分。

会议主题：《高温高剂量辐照条件下的离子注入工艺规范（草案）》首次行业意见征询会。

陈主任坐在主位左侧，代表草案主要起草方西南所。他面前摊开的文件已被翻得卷边，上面用红笔做了密密麻麻的批注。陆晨坐在他斜后方，面前只有一杯清水、一个笔记本。沈南星则更靠后些，手指在平板电脑上无声滑动，实时关注着公司内部关于东京来函的应对讨论。

主持会议的是工信部下属某标准化技术委员会的秘书长，一位头发花白、语速不快但咬字清晰的老专家。

“……草案的核心技术指标，是基于西南所‘琉璃’项目的实际需求，并参考了国内外公开的最新研究成果。”陈主任正在做起草说明，语调平稳，“特别是在抗辐照损伤的微观结构设计、离子注入的能量与剂量窗口控制、以及后处理工艺的优化这三个方面，我们提出了比现有国际通行semi标准更为严格的要求。”

他顿了顿，目光扫过对面昭栄的代表——一位四十岁上下、戴着无框眼镜的中国籍技术总监，姓赵。

“当然，标准制定不是闭门造车。今天邀请各位行业同仁，就是希望听取宝贵意见，特别是考虑到不同技术路线、设备平台的适配性问题。”

赵总监扶了扶眼镜，微笑开口：“陈主任的说明非常清晰。昭栄作为离子注入设备的全球主要供应商之一，一贯支持技术标准的完善和提升。我们认真研读了草案，整体方向非常具有前瞻性。”

先扬。

“不过，”他话锋一转，翻开面前的笔记本，“在具体的技术参数设定上，我们有一些疑问，或许也是在场其他设备厂商同仁的疑问。”

后抑。

“草案的附录a.3中，对注入后晶格缺陷的快速退火温度范围，限定在950c到1050c，且要求温场均匀性偏差小于±5c。”赵总监的语调变得专业而精准，“这个范围，是基于特定材料体系（比如草案中重点提及的碳化硅）的实验数据。但对于更广泛的半导体材料，如硅、锗硅、乃至第三代半导体中的氮化镓，这个温度窗口可能并非最优，甚至会对某些敏感器件结构造成热损伤。”

他抬起头，看向陈主任，也若有若无地扫过陆晨。“标准应当具备普适性和引导性。如果过于聚焦某一类材料或某一种应用场景，可能会无意中限制其他技术路线的创新空间，抬高整个行业的工艺门槛和成本。这……是否与标准制定的初衷有所偏离？”

问题提得很有水平。表面上是在讨论技术细节，实则暗指草案“夹带私货”，为特定国内项目（琉璃）和合作方（燧人）量身定制，排挤其他技术路线。

会议室里响起轻微的议论声。另外两家国内设备厂商的代表交换了一下眼神，他们确实也对这个温度范围有疑虑。

陈主任面色不变。“赵总监的关切很实际。起草时，我们重点参考了‘琉璃’这类极端环境应用的极限需求。对于其他材料，标准中也有‘经充分验证后可适当调整工艺参数’的灵活性条款。标准的刚性，体现在对最终性能指标的要求上；具体工艺路径，鼓励在达标前提下的多样化创新。”

“性能指标的刚性要求，恰恰可能是问题所在。”昭栄方的欧洲合作伙伴代表，一位高鼻梁的荷兰人，用带着口音的英语接过话头，“草案对‘注入后载流子迁移率保持率’的要求，比现行semi标准高了十五个百分点。达到这一指标，可能需要全新的注入动力学模型和缺陷控制策略。这本质上是在要求设备厂商进行颠覆性创新，而不仅仅是改进。”

他摊开手：“颠覆性创新需要时间，更需要巨大的研发投入。在短期内，这会不会导致市场上符合新标准的高端设备供给严重不足，反而拖慢了整个产业链升级的步伐？”

问题更深入了一层，从技术可行性，上升到了产业影响和商业节奏。

陆晨在本子上记录着。争论的焦点，正从“参数是否合理”，滑向“谁有资格定义标准”以及“标准带来的利益如何分配”。这正是标准争夺的核心。

轮到国内设备厂商发言。一家来自上海的企业代表略显谨慎地开口：“我们理解并支持制定更先进的标准。但作为设备企业，我们更关注标准的可实施性。比如，草案要求实时监测注入过程中的‘异常等离子体震荡’，并定义了震荡频谱的阈值。这对设备的状态监控系统提出了很高要求，可能涉及核心软件的修改和硬件的升级……”

讨论开始陷入技术细节的泥潭。每个人都从自己的立场出发，提出顾虑、修改意见、或明或暗的反对。

陆晨知道，是时候了。

他轻轻叩了一下桌面。声音不大，但足够让所有人的目光转向他。

“各位，我是燧人科技的陆晨。”他开口，声音不高，但清晰稳定，“刚才听了各位的讨论，很受启发。我想从一个设备使用方，同时也是特定工艺开发方的角度，谈一点看法。”

会议室安静下来。

“标准，首先应该为什么服务？”陆晨的目光缓缓扫过众人，“是为了一两家企业的技术便利，还是为了整个产业能生产出更高性能、更可靠、更能应对未来挑战的产品？”

他停顿了一下，让问题悬在空中。

“草案中看似严苛的参数，源头是什么？是‘琉璃’这样的国家重大需求。它要求的不是实验室里的漂亮数据，而是在极端环境下十年、二十年稳定工作的绝对可靠性。”陆晨的语调加重，“这种可靠性，不是靠现有技术的修修补补就能实现的。它倒逼出来的，正是赵总监提到的‘颠覆性创新’。”

“至于担心标准过高会拖慢产业升级——”陆晨看向那位荷兰代表，“我认为恰恰相反。一个清晰、前瞻的高标准，就像赛道终点明确的旗帜，能告诉所有赛跑者应该朝哪个方向全力冲刺。它会吸引研发资源向正确的方向聚集，加速而不是延缓真正有价值的突破。”

“燧人在碳化硅离子注入工艺上，做过一些探索。”陆晨话锋一转，切入具体案例，“我们发现，要稳定达到草案中关于缺陷密度和载流子保持率的要求，确实需要对注入过程中的等离子体稳定性、能量污染控制等进行前所未有的精细调控。我们与国内设备伙伴合作，改进了源区磁场构型，开发了新的束流均匀性补偿算法。结果是，我们能在现有主流设备平台上，通过关键的局部创新，满足草案中大部分核心指标。”

他给出的不是空泛的道理，而是实实在在的、与国内伙伴合作的案例。这让刚才发言的上海厂商代表眼睛微微一亮。

“这个过程当然有挑战，有投入。”陆晨承认，“但成果也是共享的。设备厂商获得了满足下一代需求的关键技术模块，我们用户获得了稳定可靠的工艺能力。这就是标准引领下的良性互动。”

“所以，”陆晨总结道，目光最终落在主持会议的老专家身上，“我认为，草案的方向是正确的。它敏锐地捕捉到了国家重大战略需求和产业技术进化的交汇点。参数的细节可以讨论、可以优化，但以更高可靠性为导向的‘刚性’内核，应该坚持。这不仅是技术选择，更是产业自主发展的战略选择。”

他的话说完，会议室里一片寂静。

陈主任的嘴角几不可察地向上弯了一下。陆晨这番发言，有理有据，有高度也有实例，更重要的是，旗帜鲜明地扞卫了草案的核心逻辑，把讨论从昭栄引导的“成本与门槛”陷阱，拉回到了“需求与引领”的正轨。