第五十九章 光刻（2/2）

后世记忆中，姜竞株对光刻机虽然没有主要研究，但是作为后世发展重中之重的物件儿，她自然也不陌生。

光刻是通过曝光在硅晶圆上的掩膜版上印制一些更精细的图形，所以又称为掩膜对位曝光机。

芯片的制作极其复杂。上面的线条都是以nm为单位的。普通的刻刀材料根本无法在芯片上操作，于是光刻机诞生了。

同时，光刻机是大规模集成电路生产的核心设备，一般采用紫外线将光刻版的图案转移到晶圆在表面的光刻胶上，晶圆是制作芯片的基板，是后续工作要完成的基础。

它结合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件和图像识别···从理论到技术，都代表着精简段科研技术集大成融合之作，这不是一台普通机器，而是一个诺大的系统工程。

集成线路芯片是他们必须得攻克的新技术，想要达成这个目标，光刻机的改进，是首要前提条件。感谢，她意外觉醒前世记忆，很多在这个时候渺茫难测，困扰重重的技术，在后世信息大爆发，有不少都是公开资讯。

哪怕没有详细的技术资料，但是那些明确技术，已经可以作为方向性的指引。

光刻机的作用是扫描曝光芯片晶圆，刻蚀集成电路。精度越高的光刻机，能生产出纳米尺寸更小，功能更强大的芯片。小于5纳米的芯片晶圆，只能用euv光刻机生产。

euv光刻机，正规称呼应该是极紫外线光刻机。

以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造，后世资料显示，具体为采用波长为13.4nm的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的k极然后放射出紫外线。

几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，euv光刻机的光学系统只有使用反光镜···

有这样还算明确的方向指引，细致推导应用技术，对姜竞株来说，也就是不断的模拟尝试，花费些时间出结果的过程。

现在，海对面还没有这项技术，就让他们抢占先机，先一步做出来吧！她也不算拿来主义，毕竟她也没有那边的具体技术，还是重头一步步推演设计研发，这是他们自己的技术！

? ?新年快乐！！祝大家蛇年到来，步步高升，事业有成，家庭和睦，幸福安康，新年新气象，好运连连！