第217章 无数个不眠之夜（1/2）

2015年4月16日凌晨两点，伏羲实验室的刻蚀机调试车间依然灯火通明。李工戴着放大镜，正趴在设备控制台前，逐行核对机械臂的运动参数。屏幕上跳动的蓝色光标映在他布满血丝的眼睛里，旁边的保温杯里，半杯枸杞茶早已凉透。“李工，第12组参数调试完成，机械臂定位误差0.002微米，还是没达到0.001微米的目标。”年轻工程师小陈的声音带着浓浓的疲惫，他手里的笔记本上，已经记满了密密麻麻的测试数据。

14纳米刻蚀机的核心指标之一，就是机械臂的定位精度——0.001微米的误差要求，相当于一根头发直径的万分之一。自从2月中旬原型机组装完成后，这个指标就成了横在团队面前的“拦路虎”。两个多月来，团队成员平均每天只睡4个小时，调试方案改了37版，定位精度却始终在0.002微米徘徊。“再试一次，把机械臂的运动轨迹从线性插值改成贝塞尔曲线，或许能减少启停时的惯性误差。”李工揉了揉发胀的太阳穴，手指在键盘上快速敲击，修改着控制程序。

这样的深夜攻坚，在伏羲实验室已是常态。穿过刻蚀机车间的走廊，光刻机研发团队的陈研究员正带领团队进行14纳米工艺的预研测试。光刻胶涂布机的喷头在晶圆表面缓缓划过，形成一层均匀的薄膜，随后晶圆被送入曝光机。“曝光能量120mj\/cm2，焦距350nm，开始曝光！”操作员小李按下启动键，屏幕上实时显示着光刻图案的成像效果。当图案刷新出来时，所有人都屏住了呼吸——晶圆中心的图案清晰完整，但边缘区域出现了轻微的模糊，线宽误差超过了0.005微米。

“还是边缘光学畸变的问题。”陈研究员叹了口气，拿起晶圆放在显微镜下观察，“物镜系统的像差补偿算法，在大视场范围内还是不够精准。”他转身看向身后的光学工程师小张，“小张，你带两个人，把过去一周的像差数据整理出来，用神经网络重新训练补偿模型，天亮前必须出第一版测试结果。”小张用力点头，从抽屉里摸出一包速溶咖啡，撕开后直接倒进嘴里：“放心吧陈老师，保证完成任务！”

实验室的休息区里，散落着几个蜷缩的身影。刚从调试现场下来的机械工程师老王，靠着沙发就睡着了，手里还攥着轴承的设计图纸；负责euv光源研发的王教授，趴在桌子上写着实验方案，笔尖的墨水在纸上晕开了一小片；几个年轻的学生趴在电脑前，屏幕上是正在运行的仿真程序，键盘旁的外卖盒早已空了，只剩下几滴油渍。墙上的时钟指向凌晨四点，窗外的天色泛起了鱼肚白，而车间里的机器轰鸣声、键盘敲击声，却丝毫没有减弱。

林渊的办公室灯也亮着。他面前的桌子上，摊着各团队的进度报表和技术难题清单，旁边放着一杯早已冷却的咖啡。自从实验室进入14纳米攻坚阶段，他每天只睡5个小时，凌晨必到各车间巡查一遍。当他走进刻蚀机车间时，看到李工正蹲在机械臂下方，用手电筒照射着导轨的连接处。“李工，休息会儿吧，身体扛不住。”林渊递过一瓶热牛奶，“我看了你们的调试记录，贝塞尔曲线的思路是对的，但或许可以在导轨上加一层纳米级的润滑涂层，减少摩擦误差。”

李工眼睛一亮，立刻站起身：“对啊！我怎么没想到这个！之前光顾着优化程序，忽略了机械结构的摩擦影响。”他当即联系实验室的材料团队，要求紧急制备一种聚四氟乙烯纳米涂层。两个小时后，涂层样品送到了车间，团队成员连夜对导轨进行涂层处理。当重新启动机械臂进行测试时，屏幕上的定位误差数值跳动着下降，最终稳定在0.0009微米——达标了！“成了！我们成功了！”小陈激动地跳了起来，抱住身边的同事，眼泪忍不住流了下来。李工则瘫坐在椅子上，长长地舒了一口气，手里的热牛奶终于有机会喝上一口。

刻蚀机的突破并没有让林渊放松警惕，因为euv光源的研发正陷入更大的困境。当天上午，林渊来到euv研发车间，看到王教授正对着实验数据发愁。“林总，极紫外光的输出功率始终上不去，目前只有10w，远达不到量产所需的50w。”王教授指着光谱分析仪上的曲线，“我们尝试了增大激光泵浦能量，但每次功率超过12w，靶材就会出现烧蚀现象，导致光源不稳定。”

euv光刻机的核心就是极紫外光源，其技术难度堪称“人类工业皇冠上的明珠”——需要将锡靶材加热到10万摄氏度，使其电离成等离子体，再通过激光激发产生13.5纳米的极紫外光。全球只有米国cymer公司掌握成熟技术，而他们对龙国实行严格的技术封锁。“我们不能照搬cymer的靶材加热方式，或许可以采用‘双脉冲激光’方案。”林渊提出了自己的想法，“第一束激光先将锡靶材预热到5万摄氏度，第二束激光再集中能量激发，这样既能提高等离子体的转化率，又能避免靶材烧蚀。”

这个思路让王教授豁然开朗。团队立刻调整实验方案，重新设计激光光路系统。为了赶进度，他们将团队分成两组，一组负责光路调试，一组负责靶材供应系统优化，24小时轮班作业。林渊则协调中科院物理研究所，紧急调运了一台高功率脉冲激光器，同时安排华维的ai团队，通过仿真模拟优化激光的脉冲宽度和能量配比。“euv是我们打破国际垄断的关键，就算砸锅卖铁，也要啃下这块硬骨头！”林渊在攻坚动员会上坚定地说。

时间一天天过去，实验室的灯光成了江城夜色中最亮的风景。5月中旬的一个深夜，光刻胶研发团队的李教授突然晕倒在实验台前，被紧急送往医院。检查结果显示，是长期过度劳累导致的低血糖和神经衰弱。林渊得知后，立刻赶到医院，安排了最好的病房和护理人员，同时强制要求李教授团队的成员轮流休息，每人每天的休息时间不得少于6小时。“科研重要，但大家的身体更重要。”林渊在病房里对前来探望的团队成员说，“我们要打持久战，不是攻坚战，必须保证每个人都能健康地坚持下去。”

李教授住院期间，团队的研发并未停滞。林渊协调海市交通大学的王教授临时接管团队，两个团队无缝衔接，继续推进光刻胶的性能优化。5月20日，团队成功研发出“高分辨率负性光刻胶”，在14纳米工艺的测试中，分辨率达到0.03微米，抗刻蚀性比之前提升了25%。当这个消息传到医院时，李教授激动地从病床上坐起来，非要立刻回到实验室，被林渊强行按住：“等你康复了，有的是庆功宴让你参加，现在必须好好休息！”

国际巨头的专利围剿也在这个时候悄然袭来。5月下旬，asml联合应用材料、泛林半导体等企业，向龙国知识产权局和国际专利组织提起诉讼，指控伏羲实验室的“波长锁定技术”“复合抛光工艺”等10项核心技术侵犯了他们的专利权，要求停止使用相关技术，并赔偿10亿美元的经济损失。消息传来，资本市场一片哗然，渊渟资本的股价当天下跌了12%。

董事会紧急召开会议，刘建国等股东忧心忡忡：“asml的专利布局很完善，这场官司我们很难赢，要是被判侵权，我们的设备量产就要全面停滞了！”林渊却异常冷静：“他们这是想用专利战拖垮我们，我们不能被动应诉。”他早已安排海因茨博士牵头成立了专利应对团队，对所有核心技术进行了专利规避设计。“我们的‘波长锁定技术’采用了新的电路拓扑结构，与asml的专利权利要求书有本质区别；‘复合抛光工艺’的抛光剂配方和工艺参数都是自主研发的，不存在侵权问题。”