第217章 无数个不眠之夜（2/2）

林渊当即决定，一方面组织专利团队积极应诉，向专利局提交详细的技术比对报告和自主研发证明材料；另一方面，主动发起反击，针对asml的3项核心专利，向国际专利组织提出无效宣告请求，理由是“这些专利在申请前已在学术期刊上公开，不具备新颖性”。同时，他联系国内的半导体企业，联合成立了“专利防御联盟”，共享专利资源，共同应对国际巨头的专利围剿。“专利战也是一场攻坚战，我们不仅要防守，更要主动出击！”林渊在专利应对会议上强调。

专利战的压力并没有影响研发的进度。6月上旬，14纳米刻蚀机完成了全部调试工作，进入了量产工艺验证阶段。在连续72小时的全流程测试中，刻蚀机加工了500片晶圆，刻蚀线宽精度稳定在0.07微米，良率达到97.3%，不仅超过了泛林半导体同类型设备的95%，还实现了每小时30片的加工效率，比进口设备提升了25%。当测试报告出来时，李工和团队成员相拥而泣，两个多月的不眠之夜，终于换来了硕果。

euv光源的研发也迎来了突破。6月15日凌晨，王教授团队采用“双脉冲激光”方案进行测试，当第一束预热激光击中锡靶材时，靶材瞬间汽化形成等离子体，第二束激光紧接着激发，光谱分析仪上立刻显示出13.5纳米的极紫外光峰值，输出功率达到了52w，稳定运行时间超过了100秒。“成功了！我们造出了国产极紫外光源！”王教授激动地挥舞着拳头，研发人员们欢呼雀跃，有的甚至当场流下了眼泪。林渊接到消息后，立刻赶到车间，看着屏幕上稳定的功率曲线，紧紧握住王教授的手：“辛苦了！你们为龙国半导体产业立了大功！”

然而，喜悦并没有持续太久。6月20日，euv光源在进行连续24小时稳定性测试时，突然出现了功率骤降的问题——运行到12小时后，功率从52w快速下降到15w，等离子体的发光强度也明显减弱。王教授带着团队排查了三天三夜，终于发现是激光聚焦镜的表面出现了微小的烧蚀痕迹，导致激光能量无法有效聚焦到靶材上。“聚焦镜的材质是石英玻璃，在极紫外光的照射下，表面会逐渐形成氧化层，影响透光率。”王教授眉头紧锁，“我们需要一种更耐高温、抗腐蚀的材料来制作聚焦镜。”

林渊立刻联系了龙国科学院海市硅酸盐研究所，该所在特种陶瓷材料领域有深厚的积累。研究所的张院士带着团队当天就赶到实验室，经过技术研讨，提出了采用“蓝宝石单晶+类金刚石涂层”的方案：蓝宝石单晶具有耐高温、抗腐蚀的特性，类金刚石涂层则能提高表面硬度和透光率。双方团队联合开展材料制备和涂层工艺研发，林渊投入2亿元用于专用设备的采购和实验费用。

又是一个不眠之夜。7月5日凌晨，第一片蓝宝石聚焦镜样品制作完成，经过涂层处理后，立刻安装到euv光源设备上进行测试。当激光再次击中靶材时，极紫外光的输出功率稳定在55w，连续运行24小时后，功率仅下降了3%，聚焦镜表面没有出现任何烧蚀痕迹。“达标了！完全达标了！”王教授激动地抱住张院士，两个团队的研发人员们互相击掌，车间里响起了经久不息的掌声。

连续的技术突破让研发人员们疲惫不堪，但每个人的脸上都洋溢着坚定的笑容。7月中旬的一天，林渊在巡查时发现，刻蚀机团队的小陈趴在控制台前睡着了，手里还握着一张照片——照片上是他刚满月的女儿。林渊轻轻拿起毯子，盖在小陈身上，旁边的李工低声说：“小陈已经一个月没回家了，上次他爱人带着女儿来探望，他只在车间门口匆匆见了一面，就赶回了调试现场。”林渊的心里一阵酸楚，他当即决定，安排所有研发人员轮休三天，同时组织家属开放日，让家人们走进实验室，看看亲人奋斗的地方。

家属开放日当天，实验室里充满了欢声笑语。小陈的爱人抱着女儿，看着屏幕上显示的刻蚀机参数，骄傲地对女儿说：“你爸爸就是造这个‘大国重器’的英雄！”李工的妻子给丈夫擦去额头的汗珠，递上亲手做的红烧肉：“以后别太累了，家里有我呢。”林渊看着这温馨的一幕，心中充满了感动：“我们的研发人员不仅是技术专家，更是家庭的顶梁柱。实验室不仅要成为研发高地，更要成为大家的温暖港湾。”他当场宣布，设立“家庭关爱基金”，为研发人员的家属提供医疗、教育等方面的资助，解除大家的后顾之忧。

轮休结束后，研发团队以更饱满的热情投入到工作中。7月底，14纳米光刻机的预研取得重大进展——陈研究员团队研发的“大视场像差补偿算法”通过了测试，晶圆边缘的光刻精度达到了0.035微米，良率稳定在94%。这意味着，龙国已经掌握了14纳米光刻机的核心技术，距离原型机下线只有一步之遥。

8月1日，伏羲实验室召开了阶段性成果发布会，向外界公布了14纳米刻蚀机量产工艺验证通过、euv光源核心技术突破等重大成果。发布会上，林渊展示了相关的测试数据和设备原型，当屏幕上显示“14纳米刻蚀机良率97.3%”“euv光源功率55w”等数据时，现场的媒体记者和行业专家们爆发出了热烈的掌声。《科技日报》的记者在报道中写道：“伏羲实验室的研发人员们，用无数个不眠之夜，攻克了一个又一个技术难关，为龙国半导体产业的自主化之路，铺就了坚实的基石。”

发布会结束后，林渊独自一人来到实验室的屋顶。夏夜的凉风吹拂着他的脸颊，远处的江城灯火璀璨。他打开系统界面，查看最新进度：“‘珠峰计划’第四阶段进度80%（14纳米刻蚀机完成量产工艺验证，euv光源核心技术突破，14纳米光刻机预研达标），主线任务‘挑战硬科技之巅’进度85%，解锁新支线任务：‘设备国产化认证’，目标：完成14纳米设备的国产化认证，获得下游晶圆厂的批量采购订单，奖励：‘全球供应链整合包’，可快速对接国际优质配套资源。”

系统还弹出了国际市场的最新动态：“asml的euv光刻机量产遇到瓶颈，核心部件供应短缺导致交付延迟；台积电的14纳米生产线因设备故障，良率出现下滑。全球半导体设备市场的缺口，为龙国国产设备提供了绝佳的市场机会。”林渊知道，接下来的关键，就是尽快完成14纳米光刻机原型机的下线和测试，用实际产品抢占市场份额。

当他走下屋顶，回到研发车间时，看到陈研究员正带领团队进行14纳米光刻机原型机的最后组装，李工团队则在调试刻蚀机与光刻机的协同作业系统，王教授团队在优化euv光源的稳定性。车间里的每一个人，脸上都写满了专注和期待。林渊知道，再过不久，第一台国产14纳米光刻机就将正式下线，而这无数个不眠之夜的坚守，终将铸就龙国“芯”的辉煌。